氦质谱检漏之脉冲激光沉积系统PLD检漏

脉冲激光沉积系统Pulsed laser deposition是制备高通量多晶薄膜, 外延薄膜和多层异质结构和超晶格结构的物理气相沉积设备, 通常需要保证本底真空度达到 10-8mbar, 同时高真空环境对系统配置的 RHEED 及温控系统等关键设备的寿命也至关重要。

PLD 系统需要高真空环境, 腔室是否有泄漏, 是否有内部材料放气等因素对实现高真空及超高真空很关键。因此需要对整个系统进行泄漏检测，氦质谱检漏仪利用氦气作为示踪气体可精确定位, 定量漏点，因此广泛应用于 PLD 设备检漏。脉冲激光沉积系统 PLD 检漏方法如下：

1.启动 A100，进入待机界面，启动时间≤ 2min；

2. 设定真空模式检漏，并设定报警值，将设备通过波纹软管连接检漏仪A100，确认连接完毕；

3.按下开始键，检漏仪对设备内部抽真空，到达一定压力检漏仪开始工作，同时在设备怀疑有漏的地方喷氦气 (腔体，焊缝，连接处)。若有漏，检漏仪发出声光报警，并且显示实时漏率；

4. 检测完毕，按下检漏仪停止键，移除连接管路。

氦质谱检漏仪A100与传统泡沫检漏和压差检漏对比，在提供无损检漏的同时可以检测出更小的漏率5E-13 Pa m3/s，利用氦气作为示踪气体可精确定位，定量漏点。

安徽歌博科技有限公司是一家专注于氦气检漏技术的研发、生产及销售的专业厂家，目前不断创新优化，打磨工艺的全过程严格按照国内标准，现已模块化制造、前瞻性工艺，低维护的设备，不断使得客户得到最优质的服务和最好的设备体验。

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